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中国科学院半导体研究所机构知识库
Knowledge Management System Of Institute of Semiconductors,CAS
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期刊论文
作者:
Hu, WR
;
Zhao, JF
;
Long, M
;
Zhang, XW
;
Liu, QS
;
Hou, MY
;
Kang, Q
;
Wang, YR
;
Xu, SH
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Kong, WJ
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Zhang, H
;
Wang, SF
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Sun, YQ
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Hang, HY
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Huang, YP
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Cai, WM
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Zhao, Y
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Dai, JW
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Zheng, HQ
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Duan, EK
;
Wang, JF
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提交时间:2015/03/20
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Wu, L
;
Zhang, Y
;
Gui, MY
;
Lu, PZ
;
Zhao, LX
;
Tian, S
;
Kong, YF
;
Xu, JJ
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提交时间:2013/03/20
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Yao Y
;
Liao MY
;
Kohler T
;
Frauenheim T
;
Zhang RQ
;
Wang ZG
;
Lifshitz Y
;
Lee ST
;
Yao, Y, City Univ Hong Kong, Ctr Super Diamond & Adv Films, Hong Kong, Hong Kong, Peoples R China. 电子邮箱地址:
[email protected]
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提交时间:2010/03/17
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Yao, Y
;
Liao, MY
;
Wang, ZG
;
Lifshitz, Y
;
Lee, ST
;
Lee, ST, City Univ Hong Kong, Ctr Super Diamond & Adv Films COSDAF, Hong Kong, Hong Kong, Peoples R China. 电子邮箱地址:
[email protected]
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提交时间:2010/03/17
无权访问的条目
期刊论文
作者:
黄大定
;
刘超
;
李建平
;
高斐
;
孙殿照
;
朱世荣
;
孔梅影
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提交时间:2010/11/23
无权访问的条目
期刊论文
作者:
王晓亮
;
胡国新
;
王军喜
;
刘宏新
;
孙殿照
;
曾一平
;
李晋闽
;
孔梅影
;
林兰英
;
刘新宇
;
刘键
;
钱鹤
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提交时间:2010/11/23
气源分子束外延生长锗硅异质结双极晶体管材料掺杂方法
专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2002-10-16, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人:
黄大定
;
李建平
;
高斐
;
林燕霞
;
孙殿照
;
刘金平
;
朱世荣
;
孔梅影
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浏览/下载:1640/223
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提交时间:2009/06/11
无权访问的条目
期刊论文
作者:
Cao X
;
Zeng YP
;
Kong MY
;
Pan L
;
Wang BQ
;
Zhu ZP
;
Cao X,Chinese Acad Sci,Inst Semicond,POB 912,Beijing 100083,Peoples R China.
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提交时间:2010/08/12
Effects of annealing time and Si cap layer thickness on the Si/SiGe/Si heterostructures thermal stability
会议论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 227, BEIJING, PEOPLES R CHINA, SEP 11-15, 2000
作者:
Gao F
;
Lin YX
;
Huang DD
;
Li JP
;
Sun DZ
;
Kong MY
;
Zeng YP
;
Li JM
;
Lin LY
;
Gao F Chinese Acad Sci Ctr Mat Sci Inst Semicond Beijing 10083 Peoples R China.
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浏览/下载:1904/419
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提交时间:2010/11/15
Annealing
Molecular Beam Epitaxy
Germanium Silicon Alloys
Semiconducting Materials
Strain Relaxation
Hydrogen behavior in GaN epilayers grown by NH3-MBE
会议论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 227, BEIJING, PEOPLES R CHINA, SEP 11-15, 2000
作者:
Kong MY
;
Zhang JP
;
Wang XL
;
Sun DZ
;
Kong MY Chinese Acad Sci Inst Semicond POB 912 Beijing 100083 Peoples R China.
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浏览/下载:1464/345
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提交时间:2010/11/15
Impurities
Molecular Beam Epitaxy
Nitrides
Semiconducting Iii-v Materials
Gallium Nitride
Sapphire Substrate
Defects
Heterostructure
Semiconductors
Stress