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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Dong JJ, Zhang XW, Zhang SG, Tan HR, Yin ZG, Gao Y, Wang JX.
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Dong, JJ; Zhang, XW; Yin, ZG; Wang, JX; Zhang, SG; Si, FT; Gao, HL; Liu, X
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Zhang SG (Zhang, S. G.); Zhang XW (Zhang, X. W.); Si FT (Si, F. T.); Dong JJ (Dong, J. J.); Wang JX (Wang, J. X.); Liu X (Liu, X.); Yin ZG (Yin, Z. G.); Gao HL (Gao, H. L.)
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Dong JJ (Dong J. J.); Zhang XW (Zhang X. W.); Yin ZG (Yin Z. G.); Zhang SG (Zhang S. G.); Wang JX (Wang J. X.); Tan HR (Tan H. R.); Gao Y (Gao Y.); Si FT (Si F. T.); Gao HL (Gao H. L.)
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Zhang SG (Zhang S. G.); Zhang XW (Zhang X. W.); Yin ZG (Yin Z. G.); Wang JX (Wang J. X.); Dong JJ (Dong J. J.); Gao HL (Gao H. L.); Si FT (Si F. T.); Sun SS (Sun S. S.); Tao Y (Tao Y.)
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 高建霞; 宋国峰
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 高建霞; 王岭娥; 宋国峰
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: 高建霞; 宋国峰
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| 用于氮化物外延生长的纳米级图形衬底的制作方法 专利
专利类型: 发明, 申请日期: 2009-02-25, 公开日期: 2009-06-04, 2009-06-11
发明人: 闫发旺; 高海永; 樊中朝; 李晋闽; 曾一平; 王国宏; 张会肖; 王军喜; 张扬
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| 无权访问的条目 期刊论文
作者: Gao HY; Yan FW; Zhang Y; Li JM; Zeng YP; Wang JX; Gao HY Chinese Acad Sci Inst Semicond Semicond Lighting Res & Dev Ctr Beijing 100083 Peoples R China. E-mail Address: [email protected]
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