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中国科学院半导体研究所机构知识库
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HfO2铁电层和硅纳米线的缺陷性质研究
学位论文
, 中国科学院半导体研究所: 中国科学院大学, 2024
作者:
张才鑫
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提交时间:2024/10/17
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作者:
Zhang, Xixin
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Yang, Yuhang
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Li, Zhiyong
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Ning, Xin
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Qin, Yilang
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Cai, Weiwei
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提交时间:2022/09/29
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作者:
Qiu, Chen
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Cao, Ruyue
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Zhang, Cai-Xin
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Zhang, Chen
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Guo, Dan
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Shen, Tao
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Liu, Zhu-You
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Hu, Yu-Ying
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Wang, Fei
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Deng, Hui-Xiong
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提交时间:2022/11/03
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Lin, Ben-Chuan
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Zhang, Cai-Xin
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Fang, Jing-Zhi
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Wei, Zhongming
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Yu, Dapeng
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Liao, Zhi-Min
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Xue, Chunlai
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提交时间:2022/04/28
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Yu, Lina
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提交时间:2022/11/03
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Guo, Dan
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Zhang, Cai-Xin
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Shen, Tao
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Deng, Hui-Xiong
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提交时间:2022/12/29
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期刊论文
作者:
Qi, Shaohua
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Ning, Xin
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Yang, Guowei
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Zhang, Liping
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Long, Peng
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Cai, Weiwei
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Li, Weijun
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提交时间:2022/05/18
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期刊论文
作者:
Cai‐Xin Zhang
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Tao Shen
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Dan Guo
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Li‐Ming Tang
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Kaike Yang
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Hui‐Xiong Deng
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提交时间:2021/05/24
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Zhongming Zeng
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提交时间:2021/05/24
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期刊论文
作者:
Zema Chu
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Yang Zhao
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Fei Ma
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Cai-Xin Zhang
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Huixiong Deng
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Feng Gao
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Qiufeng Ye
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Junhua Meng
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Zhigang Yin
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Xingwang Zhang
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Jingbi You
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提交时间:2021/06/22